特許

J-GLOBAL ID：200903094176805200

マスクおよびマスクコンタミモニタ方法

発明者： 中野 博之 ,  佐々木 高幸
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-365725
公開番号（公開出願番号）：特開2004-200318
出願日： 2002年12月17日
公開日（公表日）： 2004年07月15日
要約：

【課題】コンタミネーションによるマスクの転写用パターンの線幅の変動が起きる前に、マスクの洗浄のタイミングを把握することができるマスクおよびマスクコンタミモニタ方法を提供することにある。【解決手段】転写用パターンをもつマスクに、転写用パターンよりもコンタミネーション105の付着による線幅の変動が大きいモニタ用パターン104-3を予め形成しておき、コンタミネーション105によるモニタ用パターン104-3の線幅の変動をモニタする。モニタ用パターン104-3は、例えば、端部が先鋭に形成されたパターンである。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

露光によりマスクに付着したコンタミネーションをモニタするマスクコンタミモニタ方法であって、 転写用パターンをもつマスクに、前記転写用パターンよりも前記コンタミネーションの付着による線幅の変動が大きいモニタ用パターンを予め形成しておき、 前記コンタミネーションによる前記モニタ用パターンの線幅の変動をモニタする マスクコンタミモニタ方法。

IPC (3件)：

H01L21/027 ,  G03F1/16 ,  G03F7/20

FI (6件)：

H01L21/30 503G ,  G03F1/16 B ,  G03F1/16 F ,  G03F7/20 504 ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 541S

Fターム (20件)：

2H095BA08 ,  2H095BB01 ,  2H095BB02 ,  2H095BD05 ,  2H095BD14 ,  2H095BD27 ,  2H095BE06 ,  2H097AA03 ,  2H097BA10 ,  2H097CA16 ,  2H097GB00 ,  2H097LA10 ,  5F046AA18 ,  5F056AA22 ,  5F056BA01 ,  5F056BB01 ,  5F056BB03 ,  5F056CB03 ,  5F056DA11 ,  5F056FA05