特許
J-GLOBAL ID：200903094192450446
電子装置の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-290841
公開番号（公開出願番号）：特開平9-134003
出願日： 1995年11月09日
公開日（公表日）： 1997年05月20日
要約：
【要約】【課題】高感度で、高膜厚加工可能な、水溶剤系ポジ型感光性樹脂組成物を用いた、大規模集積回路の製造,液晶配向膜パターン形成、及び、該液晶配向膜を有する表示装置の製造。【解決手段】カルボキシル基を有する高分子、または、塩基触媒反応により分解する基で保護されたカルボキシル基または水酸基を有する高分子と、電磁波の照射により塩基を発生する光塩基発生剤と、塩基により塩基が発生する塩基-塩基発生剤を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。【効果】大規模集積回路の製造,液晶配向膜パターン形成、及び、該液晶配向膜を有する表示装置の製造において、自己増幅反応が利用でき、しかも、水系溶剤で現像可能なポジ型感光性樹脂組成物の提供で、環境汚染,作業環境に問題なく、高感度で高膜厚なレリーフパターンを有するフィルムが得られる。
請求項（抜粋）：
大規模集積回路における回路形成、あるいは保護膜形成手段が、(化1)で表される分子量10000以上1000000 以下のカルボン酸重合体【化1】(式中、R1 は炭素数2〜20の有機基、nは10から20000の間の正の整数で、R2 は炭素数1〜20の有機基,水素原子,ハロゲン原子のいずれかである)を重量で全樹脂量に対して20%以上と、2級、又は/及び、3級アミンを、前記カルボン酸重合体のカルボキシル基に対して0.0〜2.0モル当量と、電磁波の照射により塩基を発生する光塩基発生剤を、前記カルボン酸重合体のカルボキシル基に対して0.01〜0.5モル当量と、塩基により塩基を発生する塩基-塩基発生剤を、前記カルボン酸重合体のカルボキシル基に対して0.1〜2.0モル当量含む感光性樹脂組成物を、基板上に塗布し乾燥する工程,遮光性マスクを介して電磁波を照射する工程,現像する工程を含むことを特徴とする大規模集積回路の製造方法。
IPC (5件)：
G03F 7/004 503
, G02F 1/1337 520
, G03F 7/039 501
, H01L 21/027
, H01L 21/312
G03F 7/004 503
, G02F 1/1337 520
, G03F 7/039 501
, H01L 21/312 D
, H01L 21/30 502 R
