特許
J-GLOBAL ID：200903094192940320
レジスト露光方法及びその露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石井 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-286141
公開番号（公開出願番号）：特開平10-112579
出願日： 1996年10月07日
公開日（公表日）： 1998年04月28日
要約：
【要約】【課題】 パターンマスクを使用することなく、半導体デバイス等のレジストを精度よく露光する。【解決手段】 露光すべきパターンに対応したパターンデータを作成し、これを電気信号としてディジタルマイクロミラーデバイスに入力し、その複数の各微小ミラーをパターンデータに応じて傾動させる。ディジタルマイクロミラーデバイスに光を投射してその各微小ミラーからの反射光をレジストに投影してパターンデータに対応した形状に露光させる。
請求項（抜粋）：
電気的デバイスの製作時に、ウエハ類上に形成したレジストを露光するにあたり、露光すべきパターンに対応したパターンデータを作成し、該パターンデータを電気信号としてディジタルマイクロミラーデバイスに入力し、その複数の各微小ミラーをパターンデータに応じて傾動させ、該ディジタルマイクロミラーデバイスに光を投射してその各微小ミラーからの反射光をレジストに投影してパターンデータに対応した形状に露光させるようにしたことを特徴とするレジスト露光方法。
IPC (4件)：
H05K 3/00
, G03F 7/20 521
, H01L 21/027
, H05K 3/06
H05K 3/00 G
, G03F 7/20 521
, H05K 3/06 Z
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 517
, H01L 21/30 519
