特許
J-GLOBAL ID：200903094212461636

位置歪み補正装置、露光システム、露光方法及び位置歪み補正プログラム

発明者：
河野 拓也

河野 拓也 について

, 
東木 達彦

東木 達彦 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (8件)： 三好 秀和 ,  三好 保男 ,  岩▲崎▼ 幸邦 ,  川又 澄雄 ,  中村 友之 ,  伊藤 正和 ,  高橋 俊一 ,  高松 俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-089376
公開番号（公開出願番号）：特開2004-296939
出願日： 2003年03月27日
公開日（公表日）： 2004年10月21日
要約：
【課題】レチクルステージに固定した状態でのレチクルの位置歪みに起因する誤差を補正でき、歩留まりを向上できる位置歪み補正装置を提供する。【解決手段】(イ)自由保持状態におけるレチクルの湾曲情報を格納する湾曲情報記憶装置8と、(ロ)湾曲情報を用いてレチクルを露光装置4のレチクルステージ上に固定したときに生じる位置歪みを算出する位置歪み情報算出手段12と、(ハ)位置歪みを用いて露光装置4の投影レンズを補正するための補正情報を算出する補正情報算出手段13とを備える。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
自由保持状態におけるレチクルの湾曲情報を格納する湾曲情報記憶装置と、 前記湾曲情報を用いて前記レチクルを露光装置のレチクルステージ上に固定したときに生じる位置歪みを算出する位置歪み情報算出手段と、 前記位置歪みを用いて前記露光装置の投影レンズを補正するための補正情報を算出する補正情報算出手段 とを備えることを特徴とする位置歪み補正装置。
IPC (2件)：
H01L21/027 ,  G03F7/20
FI (3件)：
H01L21/30 516Z ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 514E
Fターム (12件)：
5F046AA17 ,  5F046BA03 ,  5F046CB12 ,  5F046CB17 ,  5F046CB25 ,  5F046CC02 ,  5F046CC09 ,  5F046DA05 ,  5F046DA06 ,  5F046DA12 ,  5F046DB04 ,  5F046DD06
引用特許：
審査官引用 (5件)
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