特許
J-GLOBAL ID：200903094224327013

単分散オルガノポリシロキサンの製造方法

発明者：
小野 猪智郎

小野 猪智郎 について

, 
亀井 正直

亀井 正直 について

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宮台 進二

宮台 進二 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 滝田 清暉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-066669
公開番号（公開出願番号）：特開平8-239479
出願日： 1995年03月02日
公開日（公表日）： 1996年09月17日
要約：
【要約】【目的】 生産性が高く、製造コストの低い、副生物の含有率の少ない単分散オルガノポリシロキサンの製造方法を提供すること。有機銀塩を使用した、シェルフライフの長い記録材料を提供すること。【構成】環状トリシロキサンと非プロトン性有機溶媒の混合物にCaH2 を加えて脱水処理を行った後、アルキルリチウム又はリチウムシラノレートを開始剤として加えてアニオンリビング重合を行わせ、次いで、オルガノハロシランと反応させることを特徴とする単分散オルガノポリシロキサンの製造方法。
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)で表される環状トリシロキサンと非プロトン性有機溶媒の混合物にCaH2 を加えて脱水処理を行った後、一般式(2)で表されるアルキルリチウム又は一般式(3)で表されるリチウムシラノレートを開始剤として加えてアニオンリビング重合を行わせ、次いで、一般式(4)で表されるオルガノハロシランと反応させることを特徴とする、単分散オルガノポリシロキサンの製造方法;一般式(1):(R1 R2 SiO)(R3 R4 SiO)(R5 R6 SiO)式中のR1 、R2 、R3 、R4 、R5 及びR6 は、同一又は異種の、炭素原子数が1〜20のアルキル基、ハロゲン置換アルキル基、アルケニル基、アリール基又はアラルキル基である。一般式(2):R7 Li式中のR7 は炭素原子数が1〜4のアルキル基である。一般式(3):R8 R9 R10SiO(R11R12SiO)n Li式中のR8 R9 及びR10は、同一又は異種の、炭素原子数が1〜20のアルキル基、ハロゲン置換アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、又は、酸素原子若しくは硫黄原子を含む炭素原子数が4〜20の一価の有機基、R11及びR12は、同一又は異種の炭素原子数が1〜20のアルキル基、ハロゲン置換アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基であり、nは0〜9の数である。一般式(4):R13R14R15SiX式中のR13R14及びR15は、同一又は異種の水素原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、ハロゲン置換アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、又は酸素原子若しくは硫黄原子を含む炭素原子数が4〜20の一価の有機基であり、Xはハロゲン原子である。
IPC (2件)：
C08G 77/20 NUG ,  C08G 77/38 NUF
FI (2件)：
C08G 77/20 NUG ,  C08G 77/38 NUF
引用特許：
審査官引用 (3件)

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