特許

J-GLOBAL ID：200903094228374113

複製モデル作製方法

発明者： 西山 秀作 ,  松下 直久 ,  原田 忠明
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 伊東 忠彦 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-132451
公開番号（公開出願番号）：特開平5-318489
出願日： 1992年05月25日
公開日（公表日）： 1993年12月03日
要約：

【要約】【目的】 マスタモデルを型取りし、転写モデルを作製し、転写モデルより複製モデルを作製するための複製モデル作製方法に関し、短時間に、容易に複製モデルを作製することを目的とする。【構成】 マザーモデル11の形状データをコンピュータ12により入力し、コンピュータ12により形状データに基づいて光造形法を用いたラピッドプロトタイピング装置13を制御して、マザーモデル11を作製する。作製されたマザーモデル11に被膜15を形成した後、転写型16を形成し、転写型15により真空注型法を用いて複製モデル18を形成する。

請求項（抜粋）：

マスタモデル(11)を型取りし、転写モデル(16)を作製し、該転写モデル(16)より複製モデル(18)を作製する複製モデル作製方法において、前記マスタモデル(11)の立体形状データをデータ入力手段(12a)により入力するデータ入力工程と、データ入力手段(12a)により入力された前記マスタモデル(11)の前記立体形状データをデータ処理手段(12b)により処理し、前記マスタモデル(11)を複数の断面形状データに分割し、マスタモデル作製手段(13)により該複数の断面形状データに応じて樹脂を順次硬化させることにより前記マスタモデル(11)を作製するマスタモデル作製工程とを有することを特徴とする複製モデル作製方法。

IPC (4件)：

B29C 33/38 ,  B29C 35/08 ,  B29C 67/00 ,  B29K105:24