特許
J-GLOBAL ID:200903094232986352

ヘアケア用途の洗浄用組成物およびその使用

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 志賀 正武 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-114905
公開番号(公開出願番号):特開平10-045544
出願日: 1997年05月02日
公開日(公表日): 1998年02月17日
要約:
【要約】【課題】 洗浄性に優れ、良好な化粧品特性を有する、洗浄用のヘアケア組成物を提供する。【解決手段】 化粧品的に許容可能な媒体に、(A)洗浄ベースと、(B)少なくとも1つのカチオンポリマーと、少なくとも1つのアミン化シリコーンと、該アミン化シリコーンとは異なる、100Pa.s(100000cSt)以下の粘度を有する少なくとも1つの不溶性シリコーンとの混合物を含むコンディショニング系とを含有せしめる。
請求項(抜粋):
化粧品的に許容可能な媒体中に、(A)洗浄ベースと、(B)少なくとも1つのカチオンポリマーと、少なくとも1つのアミン化シリコーンと該アミン化シリコーンとは異なる100Pa.s(100000cSt)以下の粘度の少なくとも1つの不溶性シリコーンとの混合物を含むコンディショニング系とを含有してなることを特徴とする洗浄およびコンディショニング用のヘアケア組成物。
IPC (2件):
A61K 7/075 ,  A61K 7/06
FI (2件):
A61K 7/075 ,  A61K 7/06
引用特許:
審査官引用 (5件)
  • 毛髪化粧料組成物
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-182893   出願人:株式会社資生堂
  • 特開平4-033999
  • 毛髪化粧料
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-332332   出願人:花王株式会社
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