特許
J-GLOBAL ID：200903094242530500
回折構造を有する転写箔
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-050619
公開番号（公開出願番号）：特開2004-258455
出願日： 2003年02月27日
公開日（公表日）： 2004年09月16日
要約：
【課題】本発明は、回折構造がその一部に形成してある転写箔であり、特にその一部を構成する回折構造形成層がそこへ回折構造を形成するための回折構造版に対して貼りつきにくい構成となっていることを特徴とする、回折構造を有する転写箔の提供を目的とする。【解決手段】少なくとも基材、剥離層、回折構造形成層、反射層、接着層をこの順で形成してあると共に、反射層に面する回折構造形成層には回折構造となる微細な凹凸が形成してある転写箔において、回折構造形成層には回折構造を賦型するための回折構造版に対して離型性を示す離型剤を含有させる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
少なくとも基材、剥離層、回折構造形成層、反射層、接着層がこの順で形成してあると共に、反射層に面する回折構造形成層には回折構造となる微細な凹凸が形成してある転写箔において、回折構造形成層は回折構造となる微細な凹凸を形成するための回折構造版に対して離型性を示す離型剤を含有していることを特徴とする回折構造を有する転写箔。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (7件)：
2H049AA31
, 2H049AA40
, 2H049AA43
, 2H049AA64
, 2H049CA04
, 2H049CA09
, 2H049CA28
