特許
J-GLOBAL ID:200903094263300297
水素分離体
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
渡邉 一平
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-132988
公開番号(公開出願番号):特開2000-317282
出願日: 1999年05月13日
公開日(公表日): 2000年11月21日
要約:
【要約】【課題】 コーティング層を有さない多孔質基体に水素分離膜を直接形成しても、水素透過量及び透過水素の純度をほとんど落とすことなく、水素分離体の製造コストを大幅に削減することができる水素分離体を提供する。【解決手段】 多孔質基体2上に2.5〜7μmの厚さの水素分離膜4を直接形成させた水素分離体1である。多孔質基体2の平均細孔径は、水素分離膜4の厚さ以下であるとともに、1μm以上である。
請求項(抜粋):
多孔質基体上に2.5〜7μmの厚さの水素分離膜を直接形成させた水素分離体であって、上記多孔質基体の平均細孔径が、水素分離膜の厚さ以下であるとともに、1μm以上であることを特徴とする水素分離体。
IPC (3件):
B01D 71/02 500
, B01D 53/22
, C01B 3/50
FI (3件):
B01D 71/02 500
, B01D 53/22
, C01B 3/50
Fターム (32件):
4D006GA41
, 4D006HA28
, 4D006KE02P
, 4D006KE05P
, 4D006KE07P
, 4D006KE08P
, 4D006KE12P
, 4D006KE13P
, 4D006KE16P
, 4D006MA02
, 4D006MA03
, 4D006MA06
, 4D006MA22
, 4D006MA24
, 4D006MA31
, 4D006MB03
, 4D006MB15
, 4D006MC02X
, 4D006MC03X
, 4D006MC04
, 4D006MC05
, 4D006NA49
, 4D006NA50
, 4D006PA01
, 4D006PA02
, 4D006PB19
, 4D006PB66
, 4G040FA04
, 4G040FB09
, 4G040FC01
, 4G040FC07
, 4G040FE01
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