特許
J-GLOBAL ID:200903094263352912

酸素センサの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-174986
公開番号(公開出願番号):特開平5-018921
出願日: 1991年07月16日
公開日(公表日): 1993年01月26日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】 触媒溶液をチタニアに担持させる際、不均一な触媒担持によるセンサ特性の悪化を防止する。【構成】 チタニア4と基板1とを備え、このチタニアに一対の電極を接触させ触媒を担持する酸素センサの製造方法において、電極と基板との間に触媒が浸透可能な多孔質材1bを介在させ、この電極と多孔質材の上面をチタニアで覆い、このチタニアの上面から所定量の触媒を滴下する。すると、チタニアの下面の電極付近に溜まるはずの触媒が多孔質材に浸透するため、チタニアの電極付近は触媒を均一に担持することができる。
請求項(抜粋):
基板と、基板上に設けられる酸化物半導体と、酸化物半導体に接触配置される一対の電極と、酸化物半導体に滴下担持される触媒とからなる酸素センサの製造方法において、前記基板と電極との間に触媒が浸透可能な多孔質層を形成した後、基板と多孔質層との接触面とは反対側の多孔質層表面と電極表面を前記酸化物半導体で覆い、前記酸化物半導体と前記多孔質材との接触面とは反対側の酸化物半導体表面から所定量の触媒を滴下担持することを特徴とする酸素センサの製造方法。

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