特許

J-GLOBAL ID：200903094265682626

回転式薬液処理装置

発明者： 佐合 宏仁 ,  小針 英也 ,  上田 康爾 ,  宮本 英典 ,  高月 龍三
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社 ,  タツモ株式会社
代理人 (2件)： 稲元 富保 (外3名) ,  下田 容一郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-054135
公開番号（公開出願番号）：特開平7-256195
出願日： 1994年03月24日
公開日（公表日）： 1995年10月09日
要約：

【要約】【目的】 回転カップ式処理装置のインナーカップ用蓋体の下面の洗浄を効率よく行う。【構成】 洗浄液ノズル12の外周面と中空孔13であるスピンナー軸8内周面との間に形成される環状の隙間は、隔壁部材であるパイプ15にて環状の外側隙間16と内側隙間17に分けられ、外側隙間16はその上端部及び下端部がシール材18,19にて気密に封止され、封止された外側隙間16はその下部においてチューブ20を介して真空引き装置につながり、また上部において吸引チャック7に形成した吸引孔が連通している。

請求項（抜粋）：

インナーカップの外側に回転するインナーカップからのドレインを受けるアウターカップを配置した回転式薬液処理装置において、前記インナーカップの回転中心には上下方向に貫通する中空孔が設けられ、固定ブロックに取り付けられた洗浄液ノズルが中空孔内周面との間に隙間を形成して中空孔内に挿入されていることを特徴とする回転式薬液処理装置。

IPC (6件)：

B05C 11/08 ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 351 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/68

FI (2件)：

H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/306 R

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平3-145715
  
• 基板端縁洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-360174   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 特開平4-053224
  
• 特開昭58-111320