特許

J-GLOBAL ID：200903094298984156

投影装置およびこれを備えた写真焼付装置ならびに焼付方法

発明者： 西川 英利
出願人/特許権者： ノーリツ鋼機株式会社
代理人 (1件)： 木島 隆一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-042034
公開番号（公開出願番号）：特開2001-194724
出願日： 2000年02月18日
公開日（公表日）： 2001年07月19日
要約：

【要約】【課題】 例えば液晶表示装置などの光変調素子に表示した画像を光照射対象に投影する投影手段において、光源からの光の利用効率を高めた投影装置ならびにこれを備えた写真焼付装置を提供する。【解決手段】 光源1から出射した光を、P偏光成分の光を透過し、S偏光成分の光を所定の方向に反射させるPBS3に入射させる。PBS3を透過したP偏光成分の光はそのままLCD6に入射させる。一方、PBS3で反射されたS偏光成分の光は、ミラー4で反射され、PBS3でさらに反射される。そして、リフレクタミラー1Bで反射することにより、1/4波長板を往復透過し、これによりP偏光に変換され、PBS3を透過し、LCD6に入射する。なお、LCD6は、P偏光を利用するように光入射側の偏光板を設定しておく。

請求項（抜粋）：

入射する光を、互いに異なる第1および第2の偏光成分の光に分離する偏光分離手段と、上記偏光分離手段によって分離された第1の偏光成分の光の少なくとも一部を、第2の偏光成分の光に変換する偏光変換手段と、上記偏光分離手段によって分離された第2の偏光成分の光および上記偏光変換手段によって変換された第2の偏光成分の光の透過状態を、入力される画像データに応じて各画素毎に変調させる光変調手段と、上記光変調手段から出射される光を、光照射対象に投影する投影手段とを備えていることを特徴とする投影装置。

IPC (4件)：

G03B 21/00 ,  G02F 1/13 505 ,  G02F 1/1335 ,  G03B 27/32

FI (4件)：

G03B 21/00 D ,  G02F 1/13 505 ,  G02F 1/1335 ,  G03B 27/32 B

Fターム (18件)：

2H088EA14 ,  2H088EA15 ,  2H088EA33 ,  2H088EA39 ,  2H088HA12 ,  2H088HA20 ,  2H088HA21 ,  2H088HA28 ,  2H088MA06 ,  2H091FA02X ,  2H091FA10Z ,  2H091FA14Z ,  2H091FA41Z ,  2H091FD06 ,  2H091LA04 ,  2H091LA18 ,  2H106BA55 ,  2H106BH00