特許

J-GLOBAL ID：200903094300588964

パターン位置測定装置

発明者： 乙武 太朗 ,  遠藤 隆
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-140501
公開番号（公開出願番号）：特開平5-332761
出願日： 1992年06月01日
公開日（公表日）： 1993年12月14日
要約：

【要約】【目的】 測定結果の再現性がよく、スループットの向上したパターン位置測定装置を提供する。【構成】 ステージ15上に載置した被測定基板10と同材質、同形状の基板の自重による撓みによって生じる二次元的な変位量を記憶装置22に記憶しておき、前記被測定基板10表面のパターン位置の測定結果を、前記記憶装置22に記憶した変位量で補正する。

請求項（抜粋）：

ステージ上に載置した被測定基板表面の精密パターンの二次元的な位置を測定するパターン位置測定装置において、前記被測定基板と同材質、同形状の基板の自重による撓みによって生じるパターン位置の二次元的な変位量を記憶する記憶手段と、前記被測定基板のパターン位置の測定結果を、前記記憶手段に記憶した変位量で補正する補正手段と、を有することを特徴とするパターン位置測定装置。

IPC (2件)：

G01B 21/00 ,  G06F 15/62 405

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-065619
  
• 特開平4-065619
  
• 特開昭54-118863
  
• 特開昭50-123458