特許

J-GLOBAL ID：200903094305087670

工業用滅菌装置からの放出物を減少させる方法

発明者： リチヤード・ダヴル・ベイカー ,  ヨハネス・ジー・ウイマンス
出願人/特許権者： メンブレイン・テクノロジー・アンド・リサーチ・インコーポレイテツド
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-195466
公開番号（公開出願番号）：特開平5-123385
出願日： 1991年08月05日
公開日（公表日）： 1993年05月21日
要約：

【要約】【目的】 滅菌剤気体と希釈剤気体を含有する気体流たとえば滅菌装置からの排気流を処理するための方法を提供する。【構成】 この方法は滅菌剤除去工程と希釈剤除去工程を含む。滅菌剤除去工程は吸収、触媒酸化、またはその他の化学反応であってもよい。希釈剤除去工程は膜分離工程を包含し、そして任意的に凝縮工程を包含してもよい。膜分離工程に使用される透過選択性膜は代表的には希釈剤について、気体流中のその他気体よりも選択性である。この方法は供給流の中に存在する滅菌剤を本質的に全て除去し、かつ、代表的には希釈剤の90% 以上を除去する。【効果】 この方法は特に、エチレンオキシド/CFC-12の混合物を処理するのに有効である。

請求項（抜粋）：

滅菌剤気体と希釈剤気体を包含する気体混合物を処理するための方法であって、(a) 前記気体混合物を第一分離プロセスに供給して前記気体混合物から前記滅菌剤を実質的に除去し;(b) 前記第一分離プロセスから処理済み気体流を引き出し;(c) 前記処理済み気体流を第二分離プロセスに供給し、前記処理済み気体流の少なくとも一部を、透過選択性膜を含有する膜分離ユニットに通すことを含み;(d) 前記分離ユニットから、前記気体混合物に比べて前記希釈剤気体に富む第一流を引き出し;(e) 前記膜分離プロセスから、前記気体混合物に比べて前記希釈剤気体の減損した第二流を引き出すことを特徴とする前記方法。

IPC (2件)：

A61L 2/20 ,  B01D 53/22

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭49-043486
  
• 特開昭64-042444