パターン露光方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-096769
公開番号（公開出願番号）：特開平9-281478
出願日： 1996年04月18日
公開日（公表日）： 1997年10月31日
要約：

【要約】【課題】高効率にストライプパターンの形成を行いえるパターン露光方法を提供することを目的とする。【解決手段】水平方向に連続的に搬送される長尺帯状の基材上の所定の位置に、感光性レジスト膜を形成した基板を載置固定し、該基板の搬送方向と平行に形成された万線状の遮光パターンを有する露光用マスクを介して、該基板に連続照射状態でパターン露光を行い、所望の露光照射量を充足して該基板にストライプパターンを形成することを特徴とするパターン露光方法。

請求項（抜粋）：

水平方向に連続的に搬送される長尺帯状の基材上の所定の位置に、感光性レジスト膜を形成した基板を載置固定し、該基板の搬送方向と平行に形成された万線状の遮光パターンを有する露光用マスクを介して、該基板に連続照射状態でパターン露光を行い、所望の露光照射量を充足して該基板にストライプパターンを形成することを特徴とするパターン露光方法。

IPC (4件)：

G02F 1/1335 505 , G02B 5/20 101 , G03B 27/06 , G03F 7/20

FI (4件)：

G02F 1/1335 505 , G02B 5/20 101 , G03B 27/06 , G03F 7/20

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