光強度シミュレーション装置および光強度シミュレーション方法並びに光強度シミュレーションプログラムを記録した記録媒体

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：志賀正武 (外9名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-137227
公開番号（公開出願番号）：特開平11-327120
出願日： 1998年05月19日
公開日（公表日）： 1999年11月26日
要約：

【要約】【課題】膨大な量のマスクパターンのシミュレーションを効率よく行うとともに、複数の演算処理プロセッサを活かして最適化した並列処理が行える光強度シミュレーション装置および方法、並びに、光強度シミュレーションプログラムを記録した記録媒体を提供すること。【解決手段】入力装置8から入力されたパターンデータが、所定量を超えた場合、コントロールプロセッサ1は、上記入力されたパターンデータによって表されるマスクパターンを複数の領域に分割し、演算処理プロセッサ群7の各演算処理プロセッサの各々に、分割したマスクパターン領域毎の光強度シミュレーション計算を実行させ、その結果を合成してモニタ9およびプリンタ10等へ出力する。

請求項（抜粋）：

フォトマスクパターンのパターンデータと、該フォトマスクパターンの露光工程における各種光学条件をパラメータ化した光学条件パラメータに基づいて、前記フォトマスクパターンをウェハ上に露光転写した時の投影光学像の光強度分布をシミュレーション結果として求める光強度シミュレーション装置において、前記パターンデータおよび光学条件パラメータを入力するデータ入力手段と、前記入力されたパターンデータ量、および、前記パターンデータによって表されるフォトマスクパターン領域の面積に応じて、該フォトマスクパターン領域を複数の領域に分割し、該分割した各領域に対応して前記パターンデータを分割するパターン領域分割手段と、複数の演算処理プロセッサを有し、各演算処理プロセッサにおいて、前記分割手段によって分割された各領域毎のパターンデータ、および、前記光学条件パラメータに基づいて、それぞれシミュレーション結果を並列処理することにより求める並列処理手段と、前記並列処理手段によって得られた各シミュレーション結果を合成し、前記入力されたパターンデータと、光学条件パラメータとに基づく光強度シミュレーション結果を求めるシミュレーション結果算出手段とを有することを特徴とする光強度シミュレーション装置。

IPC (3件)：

G03F 1/08 , G06F 17/00 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 1/08 A , G06F 15/20 D , H01L 21/30 502 G

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