特許
J-GLOBAL ID：200903094319831851
パターン検査方法及びパターン検査装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
西脇 民雄
, 西村 公芳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-059979
公開番号（公開出願番号）：特開2004-271270
出願日： 2003年03月06日
公開日（公表日）： 2004年09月30日
要約：
【課題】大領域の試料のパターンの欠陥検査を行う場合であっても、簡便、迅速、確実に欠陥検査を行うことができるパターン検査方法を提供する。【解決手段】本発明のパターン検査方法は、試料11に電子線をスキャンさせながら照射することにより試料11から発生する荷電粒子に基づき試料像40’を形成し、得られた試料像40’に基づき試料11のパターンを検査するパターン検査方法において、電子線のスキャンにスキューが与えられてスキャン領域が試料11のパターンの輪郭ライン40aの延びる方向に相対回転されてずらされた第1方向D1に試料像を試料に対して長方形状を除く平行四辺形状にスキャンさせて第1試料像40’を取得し、予め記憶された参照画像42と第1試料像40’とを比較して、試料の欠陥検査を行う【選択図】 図9
請求項（抜粋）：
試料に電子線をスキャンさせながら照射することにより前記試料から発生する荷電粒子に基づき試料像を形成し、得られた試料像に基づき試料のパターンを検査するパターン検査方法において、
前記電子線のスキャンにスキューが与えられてスキャン領域が前記試料のパターンの輪郭ラインの延びる方向に相対回転されてずらされた第1方向に前記試料像を前記試料に対して長方形状を除く平行四辺形状にスキャンさせて第1試料像を取得し、予め記憶された参照画像と前記第1試料像とを比較して、前記試料の欠陥検査を行うことを特徴とするパターン検査方法。
IPC (3件)：
G01N23/225
, H01J37/22
, H01J37/28
G01N23/225
, H01J37/22 502B
, H01J37/28 Z
2G001AA03
, 2G001BA07
, 2G001CA03
, 2G001GA06
, 2G001HA07
, 2G001HA13
, 2G001KA03
, 2G001LA11
, 2G001PA11
, 5C033UU04
, 5C033UU05
