特許
J-GLOBAL ID：200903094321305776
レジスト塗布装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 富士弥 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-156391
公開番号（公開出願番号）：特開平5-006854
出願日： 1991年06月27日
公開日（公表日）： 1993年01月14日
要約：
【要約】【目的】 レジスト吐出ノズルの待機中におけるレジスト硬化を防止する。【構成】 ノズル待機部13を、筐体22内に溶剤24を貯留する槽と、溶剤雰囲気を発生させる空間30とに構成し、溶剤24中に、気体導入パイプ26よりN2ガスを導入してバブリングを施すことにより、空間内の溶剤雰囲気濃度を高めるようになっている。このため、ノズル待機部13のノズル挿入孔29に挿入されたレジスト吐出ノズル15内のレジスト16は、高濃度な溶剤雰囲気に晒され、レジスト硬化が防止される。
請求項（抜粋）：
フォトレジストをレジスト吐出ノズルに供給可能なレジスト供給手段と、前記レジスト吐出ノズルの先端を内部空間に臨ませた状態で待機させると共に溶剤が前記内部空間に揮発可能に開放された溶剤貯留槽を内蔵するノズル待機部を備えたレジスト塗布装置において、前記ノズル待機部の内部空間に前記溶剤中を経由させて気体を供給することを特徴とするレジスト塗布装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, B05C 5/00 101
, B05C 11/08
, G03F 7/16 501
