特許
J-GLOBAL ID：200903094328615860
薄膜作製方法およびその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-084196
公開番号（公開出願番号）：特開平6-272028
出願日： 1993年03月18日
公開日（公表日）： 1994年09月27日
要約：
【要約】【目的】 蒸発材料の蒸発分布(蒸気の濃度分布)を一定かつ時間的に安定化することにより薄膜の膜厚分布を均一にするとともに、製作される薄膜ごとに膜厚が変化するのを防ぐ。【構成】 蒸発材料である複数のペレットP13〜P20(ペレットP13,P17のみ図示する)はそれぞれ円盤状に形成されており、回転ハース2の回転によって固定盤1の上面を摺動し、順次、回転台3上に搬送される。回転台3上に搬送されたペレットP13は回転台3の回転によって自転しながら電子ビームによって溶融し、蒸発される。円盤状のペレットP13が自転するため、その上面に形成される溶融面形状は一定となり経時的変化も少い。その結果、溶融面から発生する蒸発分布(蒸気の濃度分布)は均一となり、その経時的変化も少い。
請求項（抜粋）：
蒸発材料に電子ビームを照射してこれを溶融し、蒸発させる薄膜作製方法であって、前記蒸発材料を溶融しながらこれを自転させることを特徴とする薄膜作製方法。
IPC (2件)：
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