特許

J-GLOBAL ID：200903094340252551

マスク、露光方法及びデバイス製造方法

発明者： 原田 継介 ,  白数 廣 ,  奈良 圭 ,  村上 雅一
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (4件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-024655
公開番号（公開出願番号）：特開2004-233861
出願日： 2003年01月31日
公開日（公表日）： 2004年08月19日
要約：

【課題】露光装置の解像限界に影響されずに良好にハーフトーン露光できるマスク及び露光方法を提供する。【解決手段】マスクM上に形成され、露光光を遮蔽する遮蔽部6と露光光を透過する透過部7とを有するパターン2を感光基板に露光する際、パターン2は、遮蔽部6に対する透過部7を所定のピッチDで繰り返した繰り返し領域5を有し、繰り返した方向XにピッチD分だけマスクMを感光基板に対してシフトし、マスクMのパターン2を複数回に分けて露光する。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

放射線を遮蔽する遮蔽部と前記放射線を透過する透過部とを有するパターンを含む露光処理に用いるマスクにおいて、 前記遮蔽部に対する前記透過部、又は前記透過部に対する前記遮蔽部を所定のピッチで繰り返した繰り返し領域を有し、 前記露光処理の際に前記繰り返した方向に前記ピッチ分だけパターンをシフトすることによりハーフトーンを形成することを特徴とするマスク。

IPC (6件)：

G03F7/22 ,  G03F1/08 ,  H01L21/027 ,  H01L21/3205 ,  H01L21/336 ,  H01L29/786

FI (8件)：

G03F7/22 Z ,  G03F1/08 A ,  H01L21/30 502P ,  H01L21/30 514A ,  H01L21/30 515F ,  H01L21/30 516D ,  H01L21/88 B ,  H01L29/78 627C

Fターム (45件)：

2H095BB03 ,  2H097AA11 ,  2H097AA12 ,  2H097GB02 ,  5F033HH05 ,  5F033HH07 ,  5F033JJ01 ,  5F033JJ05 ,  5F033JJ07 ,  5F033KK05 ,  5F033LL04 ,  5F033MM05 ,  5F033NN03 ,  5F033QQ01 ,  5F033QQ08 ,  5F033QQ10 ,  5F033QQ11 ,  5F033QQ21 ,  5F033VV15 ,  5F033XX03 ,  5F046AA13 ,  5F046AA20 ,  5F046AA25 ,  5F046BA03 ,  5F046CB17 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC03 ,  5F046DA02 ,  5F046DA06 ,  5F046DA07 ,  5F110AA16 ,  5F110BB02 ,  5F110CC07 ,  5F110DD02 ,  5F110EE02 ,  5F110GG02 ,  5F110GG15 ,  5F110GG35 ,  5F110HK02 ,  5F110HK09 ,  5F110HK16 ,  5F110HK21 ,  5F110HK25 ,  5F110QQ01