特許

J-GLOBAL ID：200903094342957250

光誘起屈折率変化を制御したスカンジウム添加ニオブ酸リチウム

発明者： 北村 健二 ,  井伊 伸夫 ,  木村 茂行 ,  山本 ジョイス
出願人/特許権者： 科学技術庁無機材質研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-096985
公開番号（公開出願番号）：特開平5-270993
出願日： 1992年03月24日
公開日（公表日）： 1993年10月19日
要約：

【要約】【目的】 ニオブ酸リチウムが光学用単結晶材料として応用される際に障害となる光誘起屈折率変化(光損傷)を抑制でき、非線形光学材料又は電気光学材料等として優れた特性の光学素子用ニオブ酸リチウムを提供する。【構成】 引上げ法、ブリッジマン法又はフローティングゾーン法により、ニオブ酸リチウムに酸化スカンジウム(Sc2O3)が0.5〜5重量%添加されているニオブ酸リチウム単結晶が得られる。ニオブ酸リチウム基板結晶を酸化スカンジウムを含む溶液に浸すことにより、酸化スカンジウムを含むニオブ酸リチウム結晶を薄膜状に形成することができる。ニオブ酸リチウム基板結晶にスカンジウムを拡散することにより、スカンジウムを含むニオブ酸リチウム結晶からなる導波路を線状に形成することができる。

請求項（抜粋）：

ニオブ酸リチウムに酸化スカンジウム(Sc2O3)が0.5〜5重量%添加されていることを特徴とする耐光損傷性に優れる光学素子用ニオブ酸リチウム単結晶。

IPC (2件)：

C30B 29/30 ,  G02F 1/35 505