特許
J-GLOBAL ID：200903094344183708
反射防止膜形成用塗布液および反射防止膜付基材
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 俊一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-150966
公開番号（公開出願番号）：特開平8-012902
出願日： 1994年07月01日
公開日（公表日）： 1996年01月16日
要約：
【要約】【目的】 反射防止性能に優れた反射防止膜が簡単な工程で安価に基材表面に形成できるような反射防止膜形成用塗布液、およびこのような塗布液から得られた反射防止膜を有する反射防止膜付基材を提供する。【構成】 平均粒径D1 が大きく、屈折率n1 が大きな微粒子P1 と、平均粒径D2 が小さく、屈折率n2 が小さな微粒子P2 と、被膜形成成分Fとを含有してなり、D1 /D2 ≧3、かつn1 >n2 である反射防止膜形成用塗布液、およびこの塗布液から形成された反射防止膜を基材上に有する反射防止膜付基材。
請求項（抜粋）：
平均粒径D1 が大きく、屈折率n1 が大きな微粒子P1 と、平均粒径D2 が小さく、屈折率n2 が小さな微粒子P2 と、被膜形成成分Fとを含有してなり、D1 /D2 ≧3n1 >n2であることを特徴とする反射防止膜形成用塗布液。
IPC (2件)：
C09D 5/00 PPQ
, C09D 7/12 PSK
