特許
J-GLOBAL ID：200903094344995176
粒子源、特に反応性のイオンエッチング法及びプラズマCVD法のための粒子源
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
矢野 敏雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-153186
公開番号（公開出願番号）：特開平5-217535
出願日： 1992年06月12日
公開日（公表日）： 1993年08月27日
要約：
【要約】【目的】 粒子源の簡単な構造と室内壁の僅かな汚染とを達成し、ひいては保守インターバルの間における時間を延長する。【構成】 プラズマ19を取り囲む容器が、平行6面体形状の別体のプラズマ室7として構成され、該プラズマ室の内室と真空室の内室とが、共通の開口3によって、プラズマ室の底部及び室壁1において互いに結合され、プラズマ室において結合窓16の直前に保護窓12が設けられ、保護窓が、該保護窓を取り囲む室壁7c,7dから熱遮断され、該室壁に対してほぼ一定の間隙13を有し、結合窓と保護窓との間の室に不活性ガス等を供給するガス供給部11と、保護窓と基板4との間における室に反応性ガスを供給するためのガス供給部6とが、別個に設けられ、結合窓と保護窓との間において中間プラズマ18が点火可能であり、ひいてはマイクロウェーブの出力分布に影響を及ぼすことが可能である。
請求項（抜粋）：
粒子源、特に、大面積の基板(4)を処理する通過設備における反応性のイオンエッチング法及びプラズマCVD法のための粒子源であって、第1のプラズマ(19)を完全に取り囲んでいて真空被覆室(2)と対応する容器が設けられており、該容器の側壁が、少なくとも2極の磁界発生体(8,9,10)によって取り囲まれていて、該磁界発生体が、電子サイクロトロン共鳴を果たす磁界を生ぜしめるようになっており、開口(14)を介して容器と結合されていて電磁波、有利にはマイクロウェーブ(17)を供給するためのウェーブガイド(15)が、プラズマ(19)を発生させるために設けられており、さらに、ウェーブガイド(15)と容器との間における開口(14)を閉鎖していてマイクロウェーブ(17)を透過させる結合窓(16)と、プラズマ法のために反応性ガス及び例えば不活性ガスを供給するガス供給装置とが設けられている形式の粒子源において、第1のプラズマ(19)を取り囲む容器が、少なくともほぼ平行6面体の形状を有する別体のプラズマ室(7)として構成されており、プラズマ室(7)の内室と真空室(2)の内室とが、共通の開口(3)によって、プラズマ室(7)の底部及び室壁(1)において互いに結合されており、プラズマ室(7)において結合窓(16)の直前に、保護窓(12)が設けられており、該保護窓が、該保護窓を取り囲む室壁(7c,7d)から熱的に良好に遮断されていて、該室壁(7c,7d)に対してほぼ一定の間隙(13)を有しており、結合窓(16)と保護窓(12)との間の室に例えば不活性ガス、O2ガス又はN2ガスを供給するためのガス供給部(11)と、保護窓(12)と基板(4)との間における室に反応性ガスを供給するためのガス供給部(6)とが、別個に設けられており、結合窓(16)と保護窓(12)との間において中間プラズマ(18)が点火可能であり、ひいてはマイクロウェーブの出力分布に影響を及ぼすことが可能であることを特徴とする粒子源、特に反応性のイオンエッチング法及びプラズマCVD法のための粒子源。
IPC (5件)：
H01J 37/08
, C23C 16/50
, H01J 27/18
, H01J 37/32
, H01L 21/302
