特許
J-GLOBAL ID：200903094351527510
レジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-051465
公開番号（公開出願番号）：特開平6-242602
出願日： 1993年02月17日
公開日（公表日）： 1994年09月02日
要約：
【要約】【構成】 下記式(1)で示される1又は2以上の繰り返し単位を有し、ポリスチレン換算重量平均分子量が1000〜10000であるノボラック樹脂の水酸基の水素原子を水素一原子当り0.03〜0.27モルの割合で1,2-ナフトキノンジアジドスルホニル基で置換したノボラック樹脂をアルカリ可溶性樹脂及び感光剤として使用したことを特徴とするレジスト組成物。【化1】(但し、nは1〜4の整数、mは0〜3の整数を示す。)【効果】 本発明のレジスト組成物は、ノボラック樹脂と感光剤とが均一に混ざり合った状態で組成に均一であり、均一なレジスト膜を形成し得ると共に、高感度・高解像度で、耐熱性、残膜性に優れたポジ型レジストとして好適に使用し得る。
請求項（抜粋）：
下記式(1)で示される1又は2以上の繰り返し単位を有し、ポリスチレン換算重量平均分子量が1000〜10000であるノボラック樹脂の水酸基の水素原子を水素一原子当り0.03〜0.27モルの割合で1,2-ナフトキノンジアジドスルホニル基で置換したノボラック樹脂をアルカリ可溶性樹脂及び感光剤として使用したことを特徴とするレジスト組成物。【化1】(但し、nは1〜4の整数、mは0〜3の整数を示す。)
IPC (3件)：
G03F 7/023 511
, G03F 7/023 501
, H01L 21/027
