特許
J-GLOBAL ID:200903094360908216

単結晶の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 前田 均 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-026766
公開番号(公開出願番号):特開2003-226599
出願日: 2002年02月04日
公開日(公表日): 2003年08月12日
要約:
【要約】【課題】 圧電材料として十分な品質を有する、組成式Ba3 TaGa3Si2 O14で示される単結晶の製造方法を提供すること。【解決手段】 組成式Ba3 TaGa3 Si2 O14で示される単結晶を製造する方法であって、[001]軸から74度以上90度以下の角度で傾いた結晶方位に結晶の育成を行い、単結晶を成長させることを特徴とする単結晶の製造方法。
請求項(抜粋):
組成式Ba3 TaGa3 Si2 O14で示される単結晶を製造する方法であって、[001]軸から74度以上90度以下の角度で傾いた結晶方位に結晶の育成を行い、単結晶を成長させることを特徴とする単結晶の製造方法。
IPC (3件):
C30B 29/34 ,  H01L 41/18 ,  H01L 41/24
FI (3件):
C30B 29/34 Z ,  H01L 41/22 A ,  H01L 41/18 101 A
Fターム (6件):
4G077AA02 ,  4G077BD14 ,  4G077CF10 ,  4G077ED02 ,  4G077HA11 ,  4G077PJ02
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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