特許
J-GLOBAL ID:200903094365459720

反射型マスク

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-021863
公開番号(公開出願番号):特開平8-222497
出願日: 1995年02月09日
公開日(公表日): 1996年08月30日
要約:
【要約】【目的】 高反射率を確保した状態で厳密な形状精度及び面精度の両方を満たしその結果、歪曲や像面歪曲を補正することが可能な曲面形状の反射マスク面を有する反射型マスクを提供すること。【構成】 曲面3を有する基板1の該曲面3に、反射率分布を有する反射部材2を接合し曲面形状のマスクパターン反射面4を形成してなる反射型マスク。
請求項(抜粋):
曲面を有する基板の該曲面に、反射率分布を有する反射部材を接合し、曲面形状のマスクパターン反射面を形成してなる反射型マスク。
IPC (3件):
H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G21K 1/06
FI (3件):
H01L 21/30 531 M ,  G03F 1/08 Z ,  G21K 1/06

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