特許

J-GLOBAL ID：200903094371963570

磁気ディスク媒体の製造方法

発明者： 馬場 靖男
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 石田 敬 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-328669
公開番号（公開出願番号）：特開2001-056931
出願日： 1999年11月18日
公開日（公表日）： 2001年02月27日
要約：

【要約】【課題】 DLC保護膜を有する磁気ディスク媒体の表面層にイオン注入を行って、その磁性膜の磁気特性を有為に劣化させることなくDLC保護膜の摩擦係数を有効に低減させることのできる、磁気ディスク媒体の製造方法を提供する。また、DLC保護膜を備えたディスク媒体の熱処理により劣化したDLC保護膜の膜質の回復を可能にする磁気ディスク媒体の製造方法を提供する。【解決手段】 DLC保護膜を有する磁気ディスク媒体の表面層に、炭素を含む分子イオンを注入することを含む、磁気ディスク媒体の製造方法。また、低温で成膜した高K磁性材料膜を有する磁気ディスク媒体を、磁性膜上にDLC保護膜を被着させて熱処理し、次いで表面層に炭素を含む分子イオンを注入することを含む、磁気ディスク媒体の製造方法。好ましい注入分子イオンはCm Hn + (mおよびnはそれぞれ1以上の整数を表す)で表される。

請求項（抜粋）：

ダイアモンドライクカーボン保護膜を有する磁気ディスク媒体の表面層に、炭素を含む分子イオンをイオン注入することを含む、磁気ディスク媒体の製造方法。

IPC (2件)：

G11B 5/84 ,  G11B 5/72

FI (2件)：

G11B 5/84 B ,  G11B 5/72

Fターム (11件)：

5D006AA02 ,  5D006AA05 ,  5D006BB01 ,  5D006BB07 ,  5D112AA05 ,  5D112AA07 ,  5D112AA24 ,  5D112BB01 ,  5D112BB06 ,  5D112BC05 ,  5D112GA23