特許
J-GLOBAL ID：200903094380264498
バッチ式減圧CVD装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-242641
公開番号（公開出願番号）：特開平8-107076
出願日： 1994年10月06日
公開日（公表日）： 1996年04月23日
要約：
【要約】【目的】 半導体ウエハの搬送トラブルがなく、また、搬送用ロボットの搬送からむパーティクルの発生を防止できるバッチ式減圧CVD装置を得ることを目的とする。【構成】 この発明のバッチ式減圧CVD装置1Aは、プロセスチャンバ30内に設置されているサセプタ60が六角柱のターレット34の各側面に回動自在に支持され、成膜中は半導体ウエハSの載置面62を垂直状態に保持されるが、サセプタ60がプロセスチャンバ30の開口32に来た時には、その載置面62を水平状態に回動され、ロードロックチャンバ20内の搬送用ロボット23Aのワンハンドアーム22Aで半導体ウエハSを、キャリアCからその載置面62に、或いはその逆に、常時、水平状態で搬送、移載できるように構成されている。
請求項（抜粋）：
プロセスチャンバと、カセットチャンバと、これら両者間に存在するロードロックチャンバとから構成され、前記プロセスチャンバとロードロックチャンバ間には半導体ウエハが搬送できる開口が形成されていて、この開口はプロセスチャンバシールドアで開閉できるように構成されており、前記ロードロックチャンバの前記カセットチャンバ側も半導体ウエハが搬送できる開口が形成されていて、この開口はロードロックチャンバシールドアで開閉できるように構成されており、そして前記カセットチャンバの前記後者の開口と対をなす側にも半導体ウエハ収納用キャリアを搬送できる開口が形成されていて、この開口はカセットチャンバシールドアで開閉できるように構成されており、前記カセットチャンバ内には前記キャリア内に水平に収納された状態の半導体ウエハが収容され、前記ロードロックチャンバ内には常に半導体ウエハを水平状態で前記カセットチャンバ内の前記キャリアから前記プロセスチャンバ内に移載する、或いはその逆に移載する搬送用ロボットが配設されており、そして前記プロセスチャンバ内には半導体ウエハ用載置表面を備えた複数のサセプタが同一面内で回動するように配設され、そして更に各サセプタの前記載置表面をほぼ水平状態の位置とほぼ垂直状態の位置とに回動、保持する駆動装置を備えていることを特徴とするバッチ式減圧CVD装置。
IPC (4件)：
H01L 21/205
, C23C 16/44
, C23C 16/54
, H01L 21/68
