特許
J-GLOBAL ID：200903094392749667
位相シフトマスク及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 章夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-215786
公開番号（公開出願番号）：特開平6-043626
出願日： 1992年07月22日
公開日（公表日）： 1994年02月18日
要約：
【要約】【目的】 透明基板に形成した位相シフトマスクにおいて、遮光膜の端部における不本意な光の透過を防止し、かつ一方では遮光膜の破損を防止する。【構成】 透明基板1と、遮光膜4との間に膜厚tが、t=λ/2(n-1)である(但し、λは露光光の波長、nは透明膜の屈折率)パターニングされた透明膜3を有する位相シフトマスクにおいて、透明膜3の端部を遮光膜4の端部よりもt/4からt/3だけ内側に位置させ、遮光膜4の端部を通る光が透明膜3により回折等の影響を受けないようにする。
請求項（抜粋）：
透明基板と、遮光膜との間に膜厚tが、t=λ/2(n-1)である(但し、λは露光光の波長、nは透明膜の屈折率)パターニングされた透明膜を有する位相シフトマスクにおいて、前記透明膜の端部を前記遮光膜の端部よりもt/4からt/3だけ内側に位置させたことを特徴とする位相シフトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
