特許
J-GLOBAL ID：200903094392910735

露光装置およびデバイスの製造方法

発明者：
本多 徳行

本多 徳行 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (2件)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-383732
公開番号（公開出願番号）：特開2005-150290
出願日： 2003年11月13日
公開日（公表日）： 2005年06月09日
要約：
【課題】 ローカルフィル方式の液浸法を用いる露光装置において、気泡の露光領域への進入の防止を可能とする露光装置を提供する。【解決手段】 マスク3のパターンを基板5に投影する投影光学系3と、前記基板を保持して移動させるステージ13と、前記投影光学系の最終面と前記基板の間に液膜4を形成する液膜形成手段(10,11)とを有する露光装置において、前記液膜に発生する気泡の寿命をτとし、前記基板の移動速度をVとし、前記基板の移動方向に沿った前記液膜の境界から露光領域までの距離をLとしたとき、L/V>τとなることを特徴とする構成とした。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
マスクのパターンを基板に投影する投影光学系と、前記基板を保持して移動させるステージと、前記投影光学系の最終面と前記基板の間に液膜を形成する液膜形成手段とを有する露光装置において、 前記液膜に発生する気泡の寿命をτとし、前記基板の移動速度をVとし、前記基板の移動方向に沿った前記液膜の境界から露光領域までの距離をLとしたとき、L/V>τとなることを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
H01L21/027 ,  G03F7/20
FI (2件)：
H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521
Fターム (7件)：
5F046CA04 ,  5F046CA08 ,  5F046CB01 ,  5F046CB12 ,  5F046CB25 ,  5F046CB26 ,  5F046CC01
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • 液浸式投影露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-296518   出願人：キヤノン株式会社
  • 特開昭63-49893号公報
  • 国際公開第99/49504

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