特許

J-GLOBAL ID：200903094395679090

投影露光装置

発明者： 蛭川 茂
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-219469
公開番号（公開出願番号）：特開平10-050590
出願日： 1996年08月01日
公開日（公表日）： 1998年02月20日
要約：

【要約】【課題】 ライン系、ホール系いずれのパターンに対しても良好な結像特性を発揮させるとともに組み立て時の困難性を解消する。【解決手段】 固定の瞳フィルタ(44)を設けることによりフィルタの挿脱機構を不要とする。また、照明系開口絞り切替機構(40、42)によりマスク(R)に形成されたパターン(PA)の密集度に応じて、照明系開口絞り(28A〜28F)を選択的に照明光の光路上に設定可能となっている。このため、瞳フィルタの遮光部のエネルギー吸収が大きくなるライン系パターンの露光の際には、輪帯状開口絞り(28C、28D)を、瞳フィルタの遮光部のエネルギー吸収が殆どないホール系パターンを露光する際には、円形開口絞り(28B)を照明光の光路上に設定することにより、前者では瞳フィルタの温度上昇による結像特性の悪化が防止され、また、後者では、焦点深度が向上する。

請求項（抜粋）：

照明系からの照明光によりマスクを照明し、当該マスクに形成されたパターンの像を投影光学系を介して感光材が塗布された基板上に転写する投影露光装置であって、前記投影光学系の瞳面又はその近傍に固定された中心遮光型の瞳フィルタと;少なくとも一種類の円形開口絞りと少なくとも一種類の輪帯状開口絞りとを含む少なくとも2つの照明系開口絞りを前記照明系内の照明光の光路上に選択的に設定可能な照明系開口絞り切替機構とを有する投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 515 D ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 527 ,  H01L 21/30 528