特許

J-GLOBAL ID：200903094396374420

基板処理装置および基板処理方法

発明者： 木瀬 一夫 ,  寺内 健一
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 小谷 悦司 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-158704
公開番号（公開出願番号）：特開平10-000413
出願日： 1996年06月19日
公開日（公表日）： 1998年01月06日
要約：

【要約】【課題】 廃液量を最小限として装置を小型化すると共に省資源で環境によい。【解決手段】 基板1に現像液を主ノズル4から供給して現像処理した後に基板1にリンス液を副ノズル5から供給して現像液を洗い流したリンス廃液をリンス廃液回収タンク12に配管8,13を介してリンス液回収手段18で回収し、この回収したリンス液を洗浄処理液として装置内外の洗浄処理ユニット19に配管20を介して供給して再利用するので、保有リンス液量を少なくできて装置も小型化すると共に廃液量を最小限とすることができ、省資源で環境によい基板処理装置を得ることができる。

請求項（抜粋）：

基板に現像液を供給して現像処理した後に前記基板にリンス液を供給して前記現像液を洗い流す現像処理ユニットを有する基板処理装置において、前記現像処理ユニットで基板上に供給されたリンス液を回収するリンス液回収手段と、基板を洗浄処理する洗浄処理ユニットに、前記リンス液回収手段で回収されたリンス液を洗浄処理液として供給する洗浄処理液供給手段と、を有することを特徴とする基板処理装置。

IPC (5件)：

B05C 11/08 ,  B08B 3/02 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341

FI (5件)：

B05C 11/08 ,  B08B 3/02 B ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/30 569 C