特許

J-GLOBAL ID：200903094398937090

電子ビーム・システム

発明者： ハンス・クリスチャン・ファイファ ,  ワーナー・スティッケル
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
代理人 (1件)： 合田 潔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-257155
公開番号（公開出願番号）：特開平7-201726
出願日： 1994年10月21日
公開日（公表日）： 1995年08月04日
要約：

【要約】【目的】サブフィールドにつき108個というオーダーのピクセルの並列処理によって高いスループットを実現する電子ビーム・システムを提供する。【構成】本発明は、投射システムの並列ピクセル処理能力と探針形成形ビーム・システムの縫合能力とを組合わせる直接描画応用のための電子ビーム・システムであり、このシステムは、最初のアパチャ20を均一的に照射する電子銃10と、アパチャの中間像を生成するコンデンサ・レンズ8と、システム軸102に平行にレチクル204上でビームを走査する第1のデフレクタ32、34と、レチクルにおいて最初のアパチャの像を形成すると共に、パターン化されたビームをコリメートする第1の可変軸レンズ40と、ビームを適当な位置に戻す第2のデフレクタ66、68と、ウェーハ上にレチクル・サブフィールドの像を形成する第2の可変軸軸レンズ50と、各サブフィールド毎に異なる収差修正を適用する修正エレメント80とを含む。

請求項（抜粋）：

レチクルのパターンをウェーハに描画するための電子ビーム・システムであって、電子ビーム源と、システム軸に沿いかつ照射アパチャを通して電子ビームを加速する手段と、第1の焦点距離を持ち、上記システム軸に沿って配置され、第1の磁気的対称軸を持ち、上記照射アパチャから出る上記電子ビームに作用を与えるため上記電子ビームをインターセプトする第1の磁気的集束手段と、上記第1の磁気的集束手段とレチクルの間に上記システム軸に沿って配置され、上記電子ビームが上記システム軸に平行なレチクル軸に沿って進み、上記レチクルの第n番目のサブフィールドと交差するように、上記電子ビームを変位させる第1と第2の偏向手段と、第2の焦点距離を持ち、上記第1の磁気的集束手段と上記レチクルとの間で上記システム軸に沿って配置され、第2の磁気的対称軸を持ち、上記電子ビームをインターセプトする第2の磁気的集束手段の第1の部分と、を備え持ち、上記第1の磁気的集束手段と上記第2の磁気的集束手段の上記第1の部分が連係して上記変位された電子ビームを集束させて、上記照射アパチャの像を上記レチクル上に形成し、上記照射アパチャの上記像が、サブフィールド分離距離だけ互いに離れて位置する上記レチクルの複数の非連続的サブフィールドの第n番目のレチクル・サブフィールドを含み、上記第n番目のサブフィールドが、上記レチクル軸をインターセプトし、少くとも104個のピクセルを含み、それによって、上記第n番目のサブフィールドの上記ピクセルのすべてが、同時に上記ビームにさらされ、上記第2の磁気的集束手段が、上記サブフィールドからの上記電子ビームに作用を与えるため上記レチクルと上記ウェーハの間で上記システム軸に沿って配置された第2の部分を有し、更に、上記システム軸に沿って配置され、上記レチクル軸に沿って進む第2の磁気的集束手段からの上記電子ビームをインターセプトして、上記システム軸の方向にかつ上記システム軸上の旋回点を通って上記電子ビームを偏向させる第3の偏向手段と、上記システム軸に沿って配置され、上記電子ビームをインターセプトして、上記システム軸に平行なウエーハ軸方向へかつ上記レチクル軸から見てシステム軸上の反対側に、上記第3の偏向手段からの上記電子ビームを偏向させる第4の偏向手段と、上記システム軸に沿って配置され、第3の磁気的対称軸を持ち、上記第4の偏向手段からの上記電子ビームをインターセプトする第3の磁気的集束手段と、を備え持ち、上記第3の磁気的集束手段が、上記第2の磁気的集束手段の上記第2の部分と連係して、上記電子ビームによって運ばれる上記レチクル・サブフィールドの像を、ウェーハ上の複数のN個の連続的ウェーハ・サブフィールドの中の対応する第n番目のウェーハ・サブフィールド上に合焦させ、上記第2と第3の磁気的集束手段の各々が、上記磁気的集束手段の磁界が上記レチクル軸と上記ウェーハ軸とに実質的に平行でかつ対称的になるように、上記磁気的集束手段の磁界を変換するための磁気的軸シフト手段を含み、それにより、上記第2の磁気的対称軸が上記レチクル軸と一致し、上記第3の磁気的対称軸が上記ウェーハ軸と一致し、更に、上記電子ビーム源と上記第2の磁気的集束手段と上記第3の磁気的集束手段とに接続され、電子ビームの持続時間と、上記第1、第2、第3および第4のビーム偏向手段と、上記第2および第3の磁気的集束手段ならびに上記磁気的軸シフト手段の磁界とを制御するコントローラ、を備え持つ電子ビーム・システム。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521