ナノサイズのセラミックおよび金属粉末合成のための分子分解方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：恩田博宣 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-578252
公開番号（公開出願番号）：特表2002-528369
出願日： 1999年10月26日
公開日（公表日）： 2002年09月03日
要約：

【要約】ナノサイズのセラミック粉末形成方法が開示される。前駆体のセラミック材料は、単相での逃散性構成成分と不溶性構成成分で形成される。前駆体を選択的溶媒(水、酸など)と接触させて逃散性構成成分の溶媒溶液と不溶性構成成分の残留物を形成する。前駆体は、逃散性構成成分の溶媒溶液と不溶性構成成分の非溶解残留物とを形成することができる程度に十分な溶媒との反応性を有する。前駆体材料と不溶性残留物は、不溶性構成成分を残留物上に堆積および沈殿させるには不十分な量の前駆体材料および不溶性残留物が溶液中に存在する程度に溶媒に十分に不溶性である。逃散性構成成分は、前記前駆体が溶媒と反応して、ナノサイズ粒子の形での不溶性構成成分の残留物上に逃散性構成成分の沈殿および堆積を起こすことなく逃散性構成成分の溶液を形成する程度に溶媒に十分に可溶である。逃散性構成成分を溶解させた後、逃散性構成成分を含む選択的溶媒を残留物から除去する。残留物が、不溶性構成成分のナノサイズ粉末の形で残る。

請求項（抜粋）：

ナノサイズ粉末の形成方法であって、単相中に逃散性構成成分および不溶性構成成分を含む前駆体セラミック材料を形成する工程と、前記前駆体材料を選択的溶媒と接触させて、逃散性構成成分の溶液と不溶性構成成分の残留物とを形成する工程であって;前記前駆体が、逃散性構成成分の溶媒溶液および不溶性構成成分の残留物を形成する程度に十分な溶媒との反応性を有し;前記前駆体材料および不溶性残留物が、不溶性構成成分を残留物上に堆積および沈殿させるには不十分な量の前駆体材料および不溶性残留物が溶液中に存在する程度に溶媒に十分に不溶性であり;前記逃散性構成成分が、前記前駆体が溶媒と反応して、ナノサイズ粒子の形での不溶性構成成分の残留物上に逃散性構成成分の沈殿および堆積を起こすことなく逃散性構成成分の溶液を形成する程度に溶媒に十分に可溶である工程と、前記残留物から選択的溶媒溶液を除去して、不溶性構成成分のナノサイズ粉末を形成する工程とから成る方法。

IPC (9件)：

C01F 7/02 ZAB , B01J 19/00 , B22F 9/30 , C01F 17/00 , C01G 23/053 , C01G 25/02 , C01G 31/02 , C01G 37/02 , C04B 35/626

FI (9件)：

C01F 7/02 ZAB A , B01J 19/00 N , B22F 9/30 Z , C01F 17/00 A , C01G 23/053 , C01G 25/02 , C01G 31/02 , C01G 37/02 , C04B 35/00 A

Fターム (39件)：

4G030AA11 , 4G030AA12 , 4G030AA14 , 4G030AA17 , 4G030AA19 , 4G030AA21 , 4G030AA22 , 4G030AA36 , 4G030CA04 , 4G030GA01 , 4G030GA09 , 4G030GA18 , 4G047CA02 , 4G047CB05 , 4G047CC03 , 4G047CD03 , 4G048AA02 , 4G048AB02 , 4G048AC06 , 4G048AD03 , 4G048AE05 , 4G075AA27 , 4G075BB03 , 4G075BB05 , 4G075BD16 , 4G075FB02 , 4G075FB04 , 4G076AA02 , 4G076AB02 , 4G076BA24 , 4G076CA02 , 4G076CA04 , 4G076DA01 , 4G076DA07 , 4G076DA25 , 4G076DA28 , 4K017AA03 , 4K017CA08 , 4K017EK04

引用特許：

審査官引用 (2件)

光学デバイス
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-560063 出願人：ケンブリッジディスプレイテクノロジーリミテッド
特開昭48-055560

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