特許

J-GLOBAL ID：200903094423659289

荷電粒子ビーム描画方法及び装置

発明者： 脇本 治
出願人/特許権者： 日本電子株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-313439
公開番号（公開出願番号）：特開2000-138157
出願日： 1998年11月04日
公開日（公表日）： 2000年05月16日
要約：

【要約】【課題】 DA変換器のグリッチの影響を逃れ、高精度描画を可能にする。【解決手段】 判定回路52において、グリッチ位置データと描画パターンデータを照らし合わせることにより、描画パターンがグリッチ発生位置を跨ぐか否かを判定する。描画パターンがグリッチ位置を跨ぐ図形と判定された場合、分割回路は、その描画パターンをメモリ51からのグリッチ位置を境にして矩形・台形のパターンに分割し、更に、通常の矩形・台形分割を行う。分割された各矩形パターンPa,Pbのデータは走査信号発生回路6に送られる。走査信号発生回路は、各矩形パターンを描くための走査信号を発生する。電子ビームは先ず矩形パターンPaを描くための走査を行う。次に一旦、電子ビームにブランキングが掛かり、その後すぐ、パターンPbを描くための走査を行う。

請求項（抜粋）：

描画すべきパターンデータをDA変換器を介して偏向器に送ることにより、被描画材料上の前記データに基づく領域を荷電粒子ビームで走査することにより、該被描画材料上に所望のパターンを描く様にした荷電粒子ビーム描画方法において、前記描画すべきパターンを前記DA変換器のグリッチ発生位置に基づいて分割するようにした荷電粒子ビーム描画方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/147 ,  H01J 37/305

FI (4件)：

H01L 21/30 541 J ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/147 C ,  H01J 37/305 B

Fターム (9件)：

2H097AA03 ,  2H097BB10 ,  2H097CA16 ,  5C033GG03 ,  5C034BB04 ,  5F056BC06 ,  5F056CA01 ,  5F056CB11 ,  5F056CD02