特許
J-GLOBAL ID：200903094497774497

多層膜垂直磁気記録媒体の製造方法

発明者：
河田 泰之

河田 泰之 について


出願人/特許権者：
富士電機ホールディングス株式会社

富士電機ホールディングス株式会社 について


代理人 (1件)： 篠部 正治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-114841
公開番号（公開出願番号）：特開2005-302109
出願日： 2004年04月09日
公開日（公表日）： 2005年10月27日
要約：
【課題】 磁気記録媒体のノイズを低減し、記録されている磁化の熱安定性を向上しながら、同時に記録ヘッドによる書き込み易さを両立した磁気記録媒体の製造方法を提供することにある。【解決手段】 hcp結晶構造の下地層とCo/Pt等の多層積層磁性層を備え、下地層の堆積速度を0.7nm/秒以下とする。磁性層にはSi酸化物を1〜10モル%添加する。また、下地層の表面を、質量流量比1〜10%の酸素を混合したガス圧0.1〜10PaのArガス中に1〜10秒間曝露する工程を備える。配向制御層、軟磁性裏打ち層を備えても良い。Ku、Ku1、Ku2を制御して熱安定性と書き込みやすさを両立する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
垂直磁気記録媒体の製造方法であって、 非磁性基板上に、六方最密結晶構造を有する非磁性の下地層を成膜する下地層成膜工程と、 前記下地層の直上に、第1の磁性層であるCo層と第2の磁性層であるPt層またはPd層とを交互に多層積層する磁性層成膜工程とを備え、 前記下地層を0.7nm/秒以下の堆積速度で形成することを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。
IPC (4件)：
G11B5/851 ,  G11B5/667 ,  G11B5/673 ,  G11B5/738
FI (4件)：
G11B5/851 ,  G11B5/667 ,  G11B5/673 ,  G11B5/738
Fターム (15件)：
5D006BB01 ,  5D006BB06 ,  5D006BB08 ,  5D006CA01 ,  5D006CA03 ,  5D006CA05 ,  5D006CA06 ,  5D006DA08 ,  5D112AA03 ,  5D112AA04 ,  5D112AA05 ,  5D112BB05 ,  5D112BD03 ,  5D112FA04 ,  5D112GA05
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (5件)
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