特許
J-GLOBAL ID：200903094498114750
パターン描画方式
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
内原 晋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-284300
公開番号（公開出願番号）：特開平5-120446
出願日： 1991年10月30日
公開日（公表日）： 1993年05月18日
要約：
【要約】【目的】フレームメモリへのビット単位のアクセス幅より大きく、かつその倍数値以外の幅のビットパターンを用いたスパンの塗りつぶし描画を行う場合に、最適化によって高速な描画処理をできるようにする。【構成】データ入力部1により上位ルーチンからパラメータを受け取り、データ計算部2によりスパン描画に適した形式に加工し、描画出力部3によりビットマップをマップディスプレイへの描画出力を行う。【効果】パターンの幅がビット単位のアクセス幅より大きい場合でも、アクセスの度ごとにパターンデータを展開する必要がなく、単純な命令によってマスクパターンの生成を行うことができるようになるので、大幅にその描画の処理性能を向上させることができる。
請求項（抜粋）：
ビットマップディスプレイを表示装置とし、メモリ空間にマップされたフレームメモリにアクセスすることで、ビットマップディスプレイ上への描画出力を行うシステムにおいて、ビットパターンを用いたスパンの塗りつぶし描画を行う場合に、描画に必要なデータを得るためのデータ入力部と、前記データをスパン描画に適した形式に加工するデータ計算部と、前記データに基づいてフレームメモリをアクセスし、ビットマップディスプレイ上への描画出力を行う描画出力部3とを備え、フレームメモリへのビット単位のアクセス幅より大きく、かつその倍数値以外の幅のビットパターンを用いたスパンの塗りつぶし描画を行う場合に終端データと呼ぶ補助的なパターンデータを用いて成ることを特徴とするパターン描画方式。
IPC (2件)：
G06F 15/72 400
, G06F 3/153 320
