特許

J-GLOBAL ID：200903094499043848

洗浄乾燥装置

発明者： 新村 嘉朗 ,  山本 正志 ,  満田 勝弘 ,  本田 善次郎 ,  三原 和雄 ,  前田 恭志 ,  白井 秀樹
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  ダイセル化学工業株式会社 ,  ヘキストジャパン株式会社
代理人 (1件)： 筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-134842
公開番号（公開出願番号）：特開平5-335295
出願日： 1992年05月27日
公開日（公表日）： 1993年12月17日
要約：

【要約】【目的】 IPA再生装置付き洗浄乾燥装置のスペース効率を向上させる。【構成】 真空ポンプ17および排気バルブ24を複数台のIPA再生装置13で共用し、これをメインコントローラ22で制御することにより、IPA再生装置13の構成を簡素化し、その占有面積を低減した洗浄乾燥装置1である。

請求項（抜粋）：

被処理物を有機溶媒または有機溶媒を含んだ溶媒の蒸気に曝して前記被処理物の表面の水分を除去する複数台の洗浄槽と、前記洗浄槽に貯留された有機溶媒または有機溶媒を含んだ溶媒中の水分を分離する複数台の溶媒再生装置と、前記溶媒再生装置を制御する制御系とを備えた洗浄乾燥装置であって、前記溶媒再生装置の制御系を単一のメインコントローラと複数のサブコントローラとに分け、前記溶媒再生装置の構成要素のうち、複数台の溶媒再生装置で共用可能な構成要素を前記メインコントローラで制御し、それぞれの溶媒再生装置に必要な構成要素を前記サブコントローラで制御するように構成したことを特徴とする洗浄乾燥装置。