特許
J-GLOBAL ID:200903094504284999

レーザ溶接方法および装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-213477
公開番号(公開出願番号):特開2001-353589
出願日: 2000年06月09日
公開日(公表日): 2001年12月25日
要約:
【要約】【課題】高出力レーザ溶接における試料の酸化防止である。【解決手段】不活性ガスを流動させながら充填したチャンバーの中で、レーザを90%以上のレーザ透過材料を透過させて試料に照射し、照射面の法線延長方向に位置するチャンバー内壁には該レーザ透過材料を設置しないこと、前記チャンバー内でレーザを90%以上のレーザ透過性を有しかつ鉛直下方向に凸型円形状を有するレーザ透過材料を透過させて照射すること、レーザ出射ヘッド部と案内管で連結されたチャンバー内に前記ガスを流動させながら試料にレーザ照射すること、さらにはガスを流動させたエアーカーテンを透過させてレーザを照射する。
請求項(抜粋):
レーザを照射しながら試料を溶接する方法において、アルゴンガス、ヘリウムガス、窒素ガスの内から選択した少なくとも一つのガスを、レーザ透過材料側を上流とし、溶接する試料側を下流としてガスを流動させながら充填したチャンバーの中で、レーザを90%以上のレーザ透過材料を透過させて試料に照射し、照射面の法線延長方向に位置するチャンバー内壁には該レーザ透過材料を設置しないことを特徴とするレーザ溶接方法
IPC (3件):
B23K 26/12 ,  B23K 26/00 320 ,  B23K 26/14
FI (3件):
B23K 26/12 ,  B23K 26/00 320 A ,  B23K 26/14 A
Fターム (4件):
4E068BA00 ,  4E068CH07 ,  4E068CH08 ,  4E068CJ01

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