特許

J-GLOBAL ID：200903094513781741

薄膜作成装置

発明者： 日比野 幸信 ,  松浦 正道
出願人/特許権者： 日本真空技術株式会社
代理人 (1件)： 飯阪 泰雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-093737
公開番号（公開出願番号）：特開平6-280030
出願日： 1993年03月29日
公開日（公表日）： 1994年10月04日
要約：

【要約】[目的] 高周波電源を用いた容量結合型の薄膜作成装置の真空容器内で高品質で、大面積の薄膜を形成すること。[構成] 真空容器内31に一対の電極であるカソード電極32及びアノード電極33を配設する。又、カソード電極32は高周波電源35と接続され、直流電源41を重畳する。

請求項（抜粋）：

真空容器内にカソード電極とアノード電極を対向して設置し、電極間に高周波電圧を印加する容量結合型の薄膜作成装置において、前記カソード電極に負の直流電圧を重畳して印加させることを特徴とする薄膜作成装置。

IPC (3件)：

C23C 16/50 ,  C23C 16/26 ,  C30B 29/04

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭62-145811
  
• 特開平2-276241
  
• 特開平2-182880