特許

J-GLOBAL ID：200903094516182318

基板処理装置

発明者： 芳谷 光明
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 小谷 悦司 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-066783
公開番号（公開出願番号）：特開平9-260327
出願日： 1996年03月22日
公開日（公表日）： 1997年10月03日
要約：

【要約】【課題】 設備の大型化を抑えた上で、基板の主面の処理液の液切りを確実に行わせ得るようにする。【解決手段】 水平姿勢で搬送中の基板Bの表面に洗浄水Lを供給して所定の処理を施す基板処理装置において、上記洗浄水Lの液カーテンを搬送方向に沿うように基板Bの表面に吐出する液吐出部材6と、この液吐出部材6の前後端に基板Bを横断するように配設され、かつ、上記液吐出部材6からの洗浄水Lの吐出域からの漏洩を防止する前後方向一対の液切りローラ7とを備えている。

請求項（抜粋）：

水平姿勢で搬送中の基板の主面に対して所定の処理を施す基板処理装置において、基板の主面に処理液を供給する処理液供給手段と、この処理液供給手段に対し搬送方向の前後位置であって、基板搬送方向に交差する向きに配設され、かつ、上記前後位置に対し搬送方向の両外側への処理液の漏洩を防止する処理液漏洩防止手段とを備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (6件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/68

FI (6件)：

H01L 21/304 341 M ,  H01L 21/304 341 C ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/68 A