特許

J-GLOBAL ID：200903094519812380

電子ビームの照射方法

発明者： 成瀬 豊 ,  直井 孝之 ,  相澤 均 ,  岡本 改造 ,  日名 英司
出願人/特許権者： 川崎製鉄株式会社
代理人 (1件)： 杉村 暁秀 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-077310
公開番号（公開出願番号）：特開平5-279744
出願日： 1992年03月31日
公開日（公表日）： 1993年10月26日
要約：

【要約】【構成】 連続走行中の金属ストリップに対し、電子ビームを連続的に照射する方法において、金属ストリップに対する必要照射時以外のアイドルタイムは、電子ビームの照射エネルギー密度を10 J/in2以下に低減する。【効果】 製品品質の低下や設備の増強を招く不利なしに、必要生産量に応じたムダのない生産が可能となる。

請求項（抜粋）：

連続走行中の金属ストリップに対し、電子ビームを連続的に照射する方法において、金属ストリップに対する必要照射時以外のアイドルタイムは、電子ビームの照射エネルギー密度を10 J/in2以下まで低減することを特徴とする電子ビームの照射方法。

IPC (2件)：

C21D 9/46 ,  B23K 15/00 503