特許
J-GLOBAL ID:200903094534679734
透明導電性フィルム及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
最上 正太郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-114019
公開番号(公開出願番号):特開平11-306867
出願日: 1998年04月24日
公開日(公表日): 1999年11月05日
要約:
【要約】【課題】透明高分子基板と透明導電膜層との密着性が高く、ニュートンリングを発生せず、視認性も良好な透明導電性フィルムを提供する。【解決手段】一方の主面に凹凸面層(2)が形成され、当該凹凸面層の凹凸面(2a)にコロナ放電処理及び/又はグロー放電処理が施された透明高分子基板(1)と; 上記コロナ放電処理及び/又はグロー放電処理が施された凹凸面(2a)上に積層された酸化亜鉛層(3)と; 上記酸化亜鉛層(3)上に積層された透明導電膜層(4)と; から構成されたことを特徴とする透明導電性フィルムである。
請求項(抜粋):
一方の主面に凹凸面層(2)が形成され、当該凹凸面層の凹凸面(2a)にコロナ放電処理及び/又はグロー放電処理が施された透明高分子基板(1)と、上記コロナ放電処理及び/又はグロー放電処理が施された凹凸面(2a)上に積層された酸化亜鉛層(3)と、上記酸化亜鉛層(3)上に積層された透明導電膜層(4)と、から構成されたことを特徴とする透明導電性フィルム。
IPC (4件):
H01B 5/14
, B32B 7/02 104
, G06F 3/033 360
, H01B 13/00 503
FI (4件):
H01B 5/14 A
, B32B 7/02 104
, G06F 3/033 360 H
, H01B 13/00 503 B
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