欠陥検査装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-120450
公開番号（公開出願番号）：特開2001-305071
出願日： 2000年04月21日
公開日（公表日）： 2001年10月31日
要約：

【要約】【課題】繰り返しパターンを有する被検基板上の異物や傷などを検査するときに、回折光が観察者の目や受光光学系に入射して欠陥検出の邪魔をしないようにする。【解決手段】光源と、光源からの光束を所定の入射角度で繰り返しパターンを有する被検基板に照射する照明光学系と、被検基板からの散乱光を受光する受光光学系と、受光光学系によって結像された像を撮影する撮像装置と、撮像装置で得られた像を表示する表示装置と、検査時に被検基板を載置する検査ステージと、被検基板を通過させる開閉窓を有するチャンバと、を有する欠陥検査装置において、被検基板と照明光学系とを相対的に回転可能に構成する。

請求項（抜粋）：

光源と、前記光源からの光束を所定の入射角度で繰り返しパターンを有する被検基板に照射する照明光学系と、前記被検基板からの散乱光を受光する受光光学系と、前記受光光学系によって結像された像を撮影する撮像装置と、前記撮像装置で得られた像を表示する表示装置と、検査時に前記被検基板を載置する検査ステージと、前記被検基板を通過させる開閉窓を有するチャンバと、を有する欠陥検査装置において、前記被検基板と前記照明光学系とが相対的に回転可能に構成されていることを特徴とする欠陥検査装置。

IPC (3件)：

G01N 21/956 , G01B 11/30 , H01L 21/66

FI (3件)：

G01N 21/956 A , G01B 11/30 A , H01L 21/66 J

Fターム (45件)：

2F065AA49 , 2F065BB02 , 2F065CC19 , 2F065DD12 , 2F065FF04 , 2F065FF41 , 2F065GG02 , 2F065HH03 , 2F065HH12 , 2F065JJ03 , 2F065JJ09 , 2F065JJ26 , 2F065LL01 , 2F065LL08 , 2F065LL22 , 2F065MM04 , 2F065PP11 , 2F065QQ31 , 2F065SS13 , 2G051AA51 , 2G051AA73 , 2G051AB01 , 2G051AB02 , 2G051AB03 , 2G051BA20 , 2G051BB17 , 2G051CA03 , 2G051CA04 , 2G051CB05 , 2G051CB06 , 2G051DA01 , 2G051DA03 , 2G051DA07 , 2G051DA08 , 2G051EA23 , 2G051EB01 , 2G051EB02 , 2G051FA10 , 4M106AA01 , 4M106AA09 , 4M106DB04 , 4M106DB07 , 4M106DB12 , 4M106DB15 , 4M106DB16

引用特許：

審査官引用 (11件)

基板の欠陥検査装置及び欠陥検査方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-164951 出願人：株式会社ニコン
半導体ウェーハの外観検査方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-177107 出願人：東芝セラミックス株式会社
欠陥検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-044233 出願人：株式会社ニコン

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