特許

J-GLOBAL ID：200903094552312791

基板表面からの有機物の気相除去方法並びに装置

発明者： 永徳 篤郎 ,  田中 眞人 ,  西澤 久雄
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 間宮 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-135753
公開番号（公開出願番号）：特開平5-304126
出願日： 1992年04月28日
公開日（公表日）： 1993年11月16日
要約：

【要約】【目的】 基板の表面からレジスト等の有機物を気相方式で迅速にかつ基板全面にわたって均一に除去することができるようにし、有機物の分解に伴って生成するタール状有機物によって基板表面が再汚染させるといったことも無くする。【構成】 基板10の表面に無水硫酸16の蒸気と水蒸気とを供給して基板表面の有機物を分解除去する場合に、紫外線照射ランプ24から基板表面に紫外線を照射する。

請求項（抜粋）：

基板の表面に硫黄酸化物の蒸気もしくはガスと水蒸気とを供給し、基板表面から有機物を分解除去する方法において、前記基板の表面に紫外線を照射するようにすることを特徴とする、基板表面からの有機物の気相除去方法。

IPC (4件)：

H01L 21/302 ,  B08B 3/08 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341