特許
J-GLOBAL ID：200903094562041893
アライメント方法、該アライメント方法を用いた露光方法、露光用マスク、該マスクを備えた露光装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長尾 達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-132587
公開番号（公開出願番号）：特開2004-335910
出願日： 2003年05月12日
公開日（公表日）： 2004年11月25日
要約：
【課題】メンブレン部分を有する露光用マスクを用いる露光において、露光すべき位置とのずれの少ない位置の検出ができ、作製デバイスの歩留まりを向上させることが可能となるアライメント方法、該アライメント方法を用いた露光方法、露光用マスク、該マスクを備えた露光装置を提供する。【解決手段】メンブレン部分101を有する露光用マスクをフォトレジスト300に密着させて露光するに際して、該露光用マスクと該フォトレジストとをアライメントする方法であって、該メンブレン部分101を撓ませ、該メンブレン部分に形成されたアライメントを行うための構造物106を、該フォトレジスト300に接触させることによって露光すべき位置を検出し、アライメントを行う。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
メンブレン部分を有する露光用マスクを被露光物に密着させて露光するに際して、前記露光用マスクと前記被露光物とをアライメントする方法であって、
前記メンブレン部分を撓ませ、前記メンブレン部分に形成されたアライメントを行うための構造物を、前記被露光物に接触させることによって露光すべき位置を検出し、アライメントを行うことを特徴とするアライメント方法。
IPC (4件)：
H01L21/027
, G03F1/16
, G03F7/20
, G03F9/00
H01L21/30 505
, G03F1/16 A
, G03F7/20 503
, G03F9/00 H
, H01L21/30 502D
, H01L21/30 508
2H095BA04
, 2H095BA10
, 2H097CA15
, 2H097GA00
, 2H097KA28
, 2H097LA10
, 5F046BA01
, 5F046BA10
, 5F046EA02
, 5F046EB01
, 5F046EB02
, 5F046ED01
, 5F046FA03
, 5F046FC05
