特許

J-GLOBAL ID：200903094569604478

熱処理前のクリーニング法

発明者： ラリー・ダブリュー・シャイブ ,  サイード・ピローズ
出願人/特許権者： エムイーエムシー・エレクトロニック・マテリアルズ・インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-217273
公開番号（公開出願番号）：特開平8-078377
出願日： 1995年08月25日
公開日（公表日）： 1996年03月22日
要約：

【要約】【課題】 シリコンウエハが二酸化シリコンの親水性表面層を有しており、シリコンウエハの少数キャリア寿命が実質的に減少しないシリコンウエハのクリーニング方法を提供する。【解決手段】 フッ化水素酸を含有する水溶液とシリコンウエハの表面を接触させ、ウエハ表面から金属を除去する工程、フッ化水素酸で処理したウエハをオゾン化水と接触させ、シリコンウエハの表面上に親水性酸化物層を成長させる工程、オゾン化水処理ウエハを少なくとも約300°Cの温度に少なくとも約1秒の時間にわたって加熱する工程を有してなるシリコンウエハのクリーニング方法。

請求項（抜粋）：

シリコンウエハを加熱処理する方法であって、フッ化水素酸を含有する水溶液とシリコンウエハの表面を接触させ、ウエハ表面から金属を除去し、フッ化水素酸で処理したウエハをオゾン化水と接触させ、シリコンウエハの表面上に親水性酸化物層を成長させ、オゾン化水処理ウエハを少なくとも約300°Cの温度に少なくとも約1秒の時間にわたって加熱し、加熱の初期におけるシリコンウエハ表面の鉄、クロム、カルシウム、チタン、コバルト、マンガン、亜鉛およびバナジウムのそれぞれの濃度が1x109原子/cm2未満であることを特徴とする方法。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-113620
  
• 特開昭62-198127
  
• 特開平4-144131
  
• 特開平3-228328