特許
J-GLOBAL ID：200903094583896171
塩化銅エッチング液電解再生システム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊藤 武久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-280011
公開番号（公開出願番号）：特開2001-107270
出願日： 1999年09月30日
公開日（公表日）： 2001年04月17日
要約：
【要約】【課題】 銅粉の析出状態が一定で、陰極板からの銅粉の掻き落とし及び陰極室からの銅粉の排出を安定して行うことができる改良型の電解再生処理システムを提供する。【解決手段】 電解槽2からエッチング槽1への液戻し路に返送液槽4を配設し、陽極室から排出する液を当該返送液槽に一時滞留させるとともに、電解槽の陰極室23に液面レベル検出手段16を付設し、当該液面レベル検出手段の検出結果に基づいて、上記返送液槽に滞留した液の一部を陰極室へ返送して陰極室の液面レベルを一定範囲内に制御する。
請求項（抜粋）：
塩化銅エッチング液を有するエッチング槽と、当該エッチング槽との間でエッチング液を送受する電解槽とを備えてなり、上記電解槽が隔膜を介して陰極室と陽極室とに分かれ、受け入れるエッチング液を陰極室から隔膜を介して陽極室へ連続的に流過して電気分解した後にエッチング槽へ返すようになっているエッチング液電解再生システムにおいて、前記電解槽からエッチング槽への液戻し路に返送液槽を配設し、陽極室から排出する液を当該返送液槽に一時滞留させるとともに、電解槽の陰極室に液面レベル検出手段を付設し、当該液面レベル検出手段の検出結果に基づいて、上記返送液槽に滞留した液の一部を陰極室へ返送して陰極室の液面レベルを一定範囲内に制御することを特徴とするエッチング液電解再生システム。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (11件)：
4K057WA18
, 4K057WA19
, 4K057WB04
, 4K057WE08
, 4K057WH01
, 4K057WH02
, 4K057WH05
, 4K057WH07
, 4K057WM19
, 4K057WN01
, 4K057WN02
