特許

J-GLOBAL ID：200903094584037644

応力バランスをとるための薄膜堆積方法

発明者： シャン シー ,  ルー シャンリン
出願人/特許権者： デルタ エレクトロニクス インコーポレーテッド
代理人 (4件)： 川口 嘉之 ,  松倉 秀実 ,  永田 豊 ,  遠山 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-141053
公開番号（公開出願番号）：特開2004-160976
出願日： 2003年05月19日
公開日（公表日）： 2004年06月10日
要約：

【課題】基板上の膜応力の問題を解決するための薄膜堆積方法を提供する。【解決手段】光学部品のための薄膜堆積方法を用い、基板10の両側の間の膜応力のバランスをとる。所定の層数から構成される薄膜層を基板10の上側に堆積させ、かつ、同様の厚さを有する薄膜層を基板10の下側に堆積させ、基板10の両側の膜応力のバランスをとる。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

光学部品上の膜応力のバランスをとるための薄膜堆積方法であって、 所定の厚さを有する少なくとも一層の光学薄膜層を、前記光学部品の第1の側の上に堆積させるステップ、および 前記光学部品の第1の側と第2の側との間の膜層の厚さの差を補整するための、少なくとも一層の補整薄膜層を前記光学部品の第2の側の上に堆積させるステップ、 を含む堆積方法。

IPC (4件)：

B32B7/02 ,  B32B7/04 ,  G02B1/11 ,  G02B6/293

FI (4件)：

B32B7/02 103 ,  B32B7/04 ,  G02B6/28 C ,  G02B1/10 A

Fターム (18件)：

2K009AA09 ,  2K009EE00 ,  4F100AS00C ,  4F100AT00A ,  4F100BA04 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10D ,  4F100BA25 ,  4F100JL04 ,  4F100JM02B ,  4F100JM02C ,  4F100JM02D ,  4F100JN18B ,  4F100JN18D ,  4F100JN30A ,  4F100JN30B ,  4F100JN30D

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 多層膜付き基板、露光用反射型マスクブランク、露光用反射型マスクおよびその製造方法、並びに半導体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-351650   出願人：ホーヤ株式会社
• 特開平2-182447
  
• 特開平2-182447