特許
J-GLOBAL ID：200903094592278863
マイクロ波プラズマリアクタ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-163481
公開番号（公開出願番号）：特開平9-199486
出願日： 1996年06月24日
公開日（公表日）： 1997年07月31日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 誘導結合プラズマリアクタとECRプラズマリアクタの双方の利点を享受できるプラズマリアクタを提供する。【解決手段】 ガスインジェクションソース35からマイクロ波ガイドを通ってリアクタチャンバ10の中まで伸びる複数の誘電ガスインジェクションチューブ(チャンネル、又は流路)30を有している。チャンバの底部ないし床部附近では、半導体ウエハ20がウエハペデスタル15上に置かれている。ウエハペデスタルはバイアスRF電源25に接続され、このバイアスRF電源は、マイクロ波ガイドにつながっているマイクロ波ソースとは独立して制御される。マイクロ波ガイドからのマイクロ波により、各インジェクションチューブ30内でプラズマが点火しこれが維持される。
請求項（抜粋）：
プラズマリアクタであって、真空反応チャンバと、前記反応チャンバ内で半導体ウエハを保持するウエハ支持体と、少なくとも1つの反応ガスを供給する反応ガスソースと、前記反応ガスソースから前記反応チャンバへと伸張する複数のガスフローチャンネルであって、前記反応ガスが前記チャンネルのそれぞれを通って前記チャンバに向かって流れるように、前記反応ガスソースは前記ガスフローチャンネルのそれぞれにガス流量を与え、前記複数のチャンネルは前記反応ガスソースと前記チャンバとの間に中間部分を有する、前記複数のガスフローチャンネルと、前記チャンネルのそれぞれの前記中間部分の内部を放射してこの中にプラズマを発生させる放射アプリケータであって、前記チャンネル内の流量は前記チャンネル内の該プラズマを前記チャンバ内へと輸送するに充分高い、前記放射アプリケータとを備えるプラズマリアクタ。
IPC (5件)：
H01L 21/3065
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, H01L 21/205
, H05H 1/46
H01L 21/302 B
, C23C 16/50
, C23F 4/00 D
, H01L 21/205
, H05H 1/46 B
